Le CEA a inauguré la plate-forme MAPP

Rédigé par  jeudi, 27 septembre 2018 17:13

Située à Metz, cette nouvelle plate-forme a pour objectif de favoriser le déploiement de technologies numériques dans toutes les industries.

Au travers de sa direction de la recherche technologie (CEA Tech), le Commissariat à l’énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) a inauguré le 19 septembre 2018, à Metz (Moselle), la plate-forme technologique Mécatronique pour l’amélioration des produits et des procédés (MAPP).

Étaient présents Olivier Delcayrou, secrétaire général de la Préfecture de Moselle, Jean Rottner, président de la Région Grand Est, Didier Besnard, directeur de l’Institut CEA Tech en Région, Jean-Luc Bohl, vice-président de la Région Grand Est en charge de l’attractivité et du rayonnement, et Rémi Sadocco, conseiller régional, président de la commission Innovation, Enseignement supérieur et Recherche.

Cette nouvelle plate-forme a pour objectif de favoriser le déploiement de technologies numériques dans toutes les industries (faciliter la numérisation des anciennes machines, par exemple) et d’accompagner les entreprises de la région Grand Est vers l’Industrie du futur. MAPP développera des briques technologiques de collecte, de transmission et d’interprétation des données faisant levier sur les compétences « métier » du partenaire industriel.

« Selon l’application, l’intégration de systèmes de capteurs dans les outils et les outillages visera respectivement plus de performance et plus de contrôle qualité. Quant aux pièces industrielles, on accèdera à d’avantage de valeur ajoutée pour l’amélioration des produits, ou d’avantage de services pour le suivi des procédés », explique le CEA.

La plate-forme disposera également de l’ensemble des moyens de simulation et de tests environnementaux pour l’analyse des défaillances des systèmes électroniques, ainsi que de l’ensemble des technologies de packaging et d’une compétence capable de fusionner, traiter et contextualiser les données en temps-réel, à des fins d’apprentissage automatique et de maintenance préventive.

Représentant un investissement initial supérieur à 2 millions d’euros (1,2 M€ provenant de la Région Grand Est et 840 000 euros de l’État), la plate-forme fédère une communauté d’acteurs régionaux et nationaux des mondes du numérique, de la fabrication, des industriels utilisateurs finaux dans les domaines de la mise en forme de matériaux, de la mécanique et de l’assemblage, ainsi que des concepteurs d’équipements industriels. S’ajoutent des centres techniques, des écoles, des laboratoires et des plates-formes de R&D locales (Cirtes, Insa, Ensam, Université de Lorraine, IPC, CTIF, Cetim).

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Régulateur PID

La régulation a pour objectif de maintenir à un niveau prédéterminé un paramètre de process (une température, une pression, un niveau, un débit, une position, une vitesse, etc.). Pour ce faire, le régulateur agit sur une valeur réglante (pour par exemple commander une résistance chauffante, une vanne, un robinet, un moteur, etc.).

Le régulateur PID est de loin le régulateur le plus répandu et le plus facile à mettre en œuvre. Ce type de régulation (voir aussi la définition de ce terme) consiste à associer trois actions :

  • action proportionnelle (P) : la grandeur de sortie du régulateur est directement proportionnelle à l’écart entre la grandeur mesurée et la valeur de consigne. Avec ce type de régulation, la valeur mesurée n’atteint jamais la valeur de la consigne : le rôle du régulateur est de minimiser cet écart.
  • action intégrale (I) : l’action intégrale permet d’annuler l’écart entre la mesure et la consigne et donc d’améliorer la précision de la régulation. Elle consiste à réaliser une intégration (au sens mathématique du terme) de l’écart. L’action intégrale est pratiquement toujours associée à une action proportionnelle.
  • action dérivée : celle-ci consiste à dériver (au sens mathématique du terme) l’écart entre la mesure et la consigne. L’action dérivée permet de raccourcir le temps de réponse de la régulation et de stabiliser la régulation (lorsque les variations de la grandeur contrôlée sont rapides). L’action dérivée est complémentaire de l’action proportionnelle.