CIM : une édition 2017 réussie grâce aussi à l’exposition

Rédigé par  jeudi, 26 octobre 2017 12:08
CIM : une édition 2017 réussie grâce aussi à l’exposition Cédric Lardière

Si le nombre de conférenciers a légèrement progressé, les exposants sont venus en nombre exposer sur le Village Métrologie (+37 %).

La 18e édition du Congrès international de métrologie (CIM), organisée du 19 au 21 septembre dernier à Paris Expo – Porte de Versailles par le Collège français de métrologie (CFM), affiche une belle stabilité au niveau des participants, avec 840 conférenciers et exposants venant de 45 pays différents, soit 30 % de participants étrangers – ils étaient 813 en 2015 (+3,3 %) – et, surtout, une forte croissance de l’exposition.

« 78 sociétés ont en effet exposé sur le Village Métrologie situé au sein du salon Enova qui se déroulait en même temps et dans le même lieu. Cela représente une progression de +37 % par rapport à l’édition précédente en 2015 », se réjouit l’organisateur.

Sans renier son ADN académique, le congrès, qui est désormais un lieu unique en Europe car rassemblant tous les acteurs de la mesure, a pris une coloration industrielle un peu plus forte cette année : 64 % des conférenciers étaient des industriels, les grands organismes nationaux et internationaux et les universitaires et les chercheurs représentant respectivement 23 % et 10 %.

Et, parmi le top 5 des sessions en termes d’affluence, on peut également citer la session plénière « Mesurer pour inventer le futur », qui a réuni près de 200 personnes, les sessions « Métrologie 4.0 » et « Incertitudes et concepts métrologiques », la table ronde sur la « Déclaration de conformité : nouvelle ISO/CEI 17 025 », et les celles sur la « Métrologie pour l’industrie pharmaceutique » et la « Mesure dynamique et Usine du futur » ont créé des échanges nourris.

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Etalement de spectre

Technique utilisée en transmission de données sans fil (radio), consistant à diffuser les données sur une large bande passante plutôt que sur une porteuse unique. Deux méthodes d’étalement de spectre sont couramment utilisées.

L’étalement de spectre par séquence directe (DSSS) consiste, avant modulation, à “multiplier” chaque bit à transmettre par un code pseudo-aléatoire de débit très nettement supérieur à celui du signal. L’information binaire résultante est alors utilisée pour moduler une porteuse.

Dans l’étalement de spectre par saut de fréquences (FHSS), le signal module une porteuse dont la fréquence centrale varie brusquement à intervalles réguliers selon une séquence pseudo-aléatoire. (Définition Electronique International Hebdo)