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Le CFM lance le groupe de travail «Creative Metrology»
L'objectif de ce groupe de travail est d'établir les bases d'une nouvelle métrologie, capable de répondre aux défis des projets…
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Foire de Hanovre et CeMAT réunis en un seul événement
H En réunissant les salons phares de l'industrie manufacturière et de l'intralogistique, Deutsche Messe ambitionne d'organiser la plus grande manifestation…
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La secrétaire d'État a inauguré l'Institut LNE-Nanotech
H L'un des objectifs du nouvel institut dédié à la métrologie pour les nanotechnologies du LNE est d'accélérer le développement…
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Revue Mesures
Les premières solutions de test eCall sont certifiées
Rohde & Schwarz puis Keysight Technlogies ont annoncé la certification d'organismes indépendants pour leurs systèmes de test eCall respectifs.
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Revue Mesures
Des recommandations sécurisent l'OPC UA
L'OPC Foundation vient de publier des recommandations pour la configuration et le fonctionnement d'un OPC Unified Architecture sécurisé.
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L'analyseur de réseau vectoriel passe à l'open source
Red Pitaya, jeune pousse slovaque, continue de développer son offre d'instruments de mesure économiques, très compacts et en open source,…
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«Les facteurs organisatio nnels et humains ont leur place dans la ges tion du risque»
H Trop souvent, la sécurité est réduite à des questions techniques. Mais certains organismes, comme l'Ineris, mettent en avant l'importance…
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Les capteurs à obturateur roulant, une alternative économique
Grâce à leurs qualités intrinsèques qui ne cessent de progresser, les capteurs à obturateur roulant (rolling shutter) constituent une alternative…
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La supervision est prête pour l'usine du futur
H Les logiciels de supervision tirent profit de l'évolution de l'environnement industriel. Plus connectées, les machines fournissent donc plus de…
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